水的纯度，芯片的速度 | 沃顿科技自主研发超纯水膜，助算力狂飙！
2025/06/30
AI预测、AI办公、AI写词作曲……当人们在生活中不断探索人工智能的N种打开方式时，或许未曾意识到，AI每一次高速“思考”的背后，都涌动着每秒万亿次的算力洪流。而支撑这场智能革命的引擎正深藏于一枚小小的芯片中，每一枚芯片的完美诞生，都离不开超纯水的洁净守护。
微电子行业对超纯水要求有多严格？
从硅砂到芯片的蜕变，需要跨越数千余道精密工序，每一个环节都须严格把控，水质更为关键。几乎不含任何离子、有机物、颗粒和微生物的超纯水应运而生，广泛应用于光刻、蚀刻、清洗及封装等重要环节，一个普通的芯片制造工厂每天可以使用 1000 万加仑的超纯水。
超纯水水质好坏直接影响到芯片的良品率和质量，因而微电子行业对其纯度要求极高，在电阻率、总有机碳、颗粒物、菌群、溶解氧、金属离子、硅元素等方面都具有严苛标准。
反渗透膜与超纯水制备
超纯水可通过反渗透法、离子交换法、蒸馏法等技术加工制取，其中，反渗透技术因高脱盐率、适应水质含盐量范围广、环保、产水水质稳定等特点得到普遍应用。
工艺流程：在超纯水的制备工艺中，膜系统进水一般为市政自来水或自来水+回用水，经过预处理及2B3T工艺处理后，进入RO的进水电导一般小于10μs/cm。
RO膜技术需求：
一方面，脱除超纯水的TOC（尿素等），另一方面，对膜元件通量需求较大，系统通常设计单支膜产水量达到1.2m³/h以上。
由于回用水中包含表面活性剂及其他生产冲洗过程中的清洗剂会对产水量有影响，对膜产水量的抗衰减性能要求高。
沃顿科技UE系列定义超纯水中国方案
沃顿科技超纯水膜UE系列显著提升了PA脱盐层的聚合度及致密性，脱盐率可达99.7%，可实现TOC及SiO2的高脱除率，并且更耐进水TOC高负荷冲击。
采用第三代给水格网，改善水流分布，降低压力损失，净压力增加，产水量更大，能耗更低，且改变进水格网表面特性，降低污染物附着力、更耐污染更易清洗。
成功案例：
某企业有RO系统8套，单套78支膜元件，单套设计产水量110t/h，设计回收率≥90%；使用沃顿科技膜产品LE-440UE，单套系统产水量112t/h，回收率93.9%，进水TOC＜200ppb，产水TOC 10-30ppb，系统运行稳定，产水品质良好。
目前沃顿科技的超纯水膜UE系列产品已在多家大型半导体企业实现稳定应用。未来，沃顿科技将持续以创新的超纯水膜技术，为微电子产业赋能，助力高端芯片制造向精密化、规模化进阶，驱动可持续发展，守护的纯净未来。
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